EDISTA XP3シリーズ

オルガノが独自に開発・設計した EDISTA EDI-XP3 は、内部のイオン交換樹脂及び膜の構成を最適化した D2 構造を採用する事で、これまでにない高純度の超純水が得られるようになりました。これにより、EDIでのシリカ保証も可能となり、半導体産業で求められるような超純水製造装置への適用も可能となりました。
また、運転初期の水質立ち上がり遅延や有機物の漏洩等の問題が発生しないよう、自社工場で精製した EDI 専用イオン交換樹脂を使用し、オイルフリー設計、出荷前超純水洗浄などの対策を行っております。
本装置は、半導体関連産業、電力分野、医薬製薬分野、食品分野等の幅広い産業において、お客様が望まれる水質の超純水を提供致します。
本モデルは 高い処理水質、シリカ、ホウ素の高度除去が実現（ホウ素除去率＞99.9％、シリカ濃度＜0.1ppbの超純水を安定して供給可能です）。